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      半導體襯底成膜方案

       

      深溝槽襯底應用案例(縱橫比1:15)

       

      半導體襯底成膜方案(圖1)半導體襯底成膜方案(圖2)

      效果

      在溝槽底部,從側壁到底部可以基本形成同一SiO2膜厚

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